【科技】中兴新专利曝光:上下双刘海设计
本篇文章76字,读完约1分钟
还没有,还没有。这是最近中国国家权利局中兴的中兴照片。 我是。 从图上看,用的是上下刘。 这是全屏手机,这个设计还没有。 。 。
很好,许
东西嘻嘻
标题:【科技】中兴新专利曝光:上下双刘海设计
地址:http://www.greenichiban.com/news/12046.html
免责声明:国际科技时报是中国具有影响力的科技媒体,以全球视角,第一时间呈现最新科技资讯。所著的内容转载自互联网,本站不为其真实性负责,只为传播网络信息为目的,非商业用途,如有异议请及时联系btr2031@163.com,国际科技时报的作者:何鸿宝将予以删除。