【科技】台积电5nm首次曝光:要出绝招!

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作为世界上最大的代工厂，台湾积体电路制造这几年不太顺利，但展望未来总是很光明的:年第四季度量产10nm，生产7 nm & hellip & hellip；

那么接下来呢？ 5nm。 嗯，是的。 今后越前进，进步幅度就越小。 5nm以后能否继续前进是个大问题。

为了应对工艺提高带来的各种复杂挑战，半导体领域早就考虑了各种各样的高方法，但价格太高，技术太多太复杂，极紫外光刻( euv )等实用化不太容易。

根据计划，台湾积体电路制造的10nm、7nm使用euv极紫外技术，更远的5nm也使用它，加入新的多电子束技术( multipe e-beam )。

但是，5nm还是长期计划，需要处理的问题太多，还不确定什么时候开始生产。 台湾积体电路制造只是说-每年继续研究5nm。

据业界相关人士预测，10nm以后的流程至少要在5年后实现，这样必须等到7nm，根据台湾积体电路制造这几年的闭门不出表现，很难说。

英特尔也在研究极紫外光刻和450毫米大晶片，但生产进度一再放缓。 10nm晶片已经试制好了，应该在10nm采用。 极紫外可能得等7nm。